苏州光刻掩膜版检验标准讲述-苏州硅时代电子

光刻掩膜版的检验是用传播光检查制作缺陷，在以前，这项检查是使用显微镜，人工来检验完成的，但如今掩膜版越来越复杂，检验工作也从人工检查转变为自动化工具检查，这种转变使得光刻掩膜版的检验更加迅速，也减少了错误的产生。

光刻掩膜版的检验主要分为外观检验以及尺寸测量。

外观检验主要是查看光刻版表面是否有凹陷、黑点、划伤、脏点等，同时也要检测图形是否完整。

尺寸测量主要是测量切割尺寸、居中尺寸，以及测量CD精度。

苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，公司硬件配置先进，从瑞典、日本、德国等国引进同行业先进的掩模版直写光刻制作系统及检查测量的设备，公司核心技术团队硕士学历及以上占比80%，骨干员工均有5年以上的掩模版生产、研发经验。

公司的主要产品高精密掩模版应用于：集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件行业，产品处于中国大陆掩膜版行业的先进水平。同时公司拥有强大的MEMS设计与加工实力，具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力，为客户提供全方位的技术服务。