苏州光刻掩膜版的用途是什么-苏州硅时代电子解答

掩膜版有多个名称，也称作光刻掩膜版、光罩、光刻版、掩膜基板、光掩模等等，是用来制作掩膜图形的面板，常在芯片制作过程中使用，是图形转移的工具。

掩膜版的制作是有工程师自己设计图形提交，光刻机进行掩膜版制作将图形加工在掩膜版上，掩膜版制作完毕后通过曝光等工艺，将掩膜版上的图形转移至硅片或其他载体上，从而进行后续的加工工艺。

苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，公司硬件配置先进，从瑞典、日本、德国等国引进同行业先进的掩模版直写光刻制作系统及检查测量的设备，公司核心技术团队硕士学历及以上占比80%，骨干员工均有5年以上的掩模版生产、研发经验。

公司的主要产品高精密掩模版应用于：集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件行业，产品处于中国大陆掩膜版行业的先进水平。同时公司拥有强大的MEMS设计与加工实力，具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力，为客户提供全方位的技术服务。