用什么打印光刻掩膜版-苏州硅时代简述

光刻掩膜版的制作最重要的设备就是光刻机，光刻机英文名称Mask Aligner，又名光刻系统、曝光系统等，它采用激光直写的方式，在光刻掩膜版上面进行图形绘制，从而制作出掩膜版。

光刻机是光刻掩膜版制作的核心设备，也是芯片制作的重要设备制造和维护都需要高度的光学和电子工业的基础，目前光刻机还是国外少数厂家掌握，因此光刻机的价格非常昂贵。

苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，公司硬件配置先进，从瑞典、日本、德国等国引进同行业先进的掩模版直写光刻制作系统及检查测量的设备，公司核心技术团队硕士学历及以上占比80%，骨干员工均有5年以上的掩模版生产、研发经验。

公司的主要产品高精密掩模版应用于：集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件行业，产品处于中国大陆掩膜版行业的先进水平。同时公司拥有强大的MEMS设计与加工实力，具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力，为客户提供全方位的技术服务。